Titanium mål

Titanium-mål er nøgleråmaterialer, der bruges i den fysiske dampaflejring (PVD) sputteringproces. Højenergipartikler bombarderer deres overflader, forstøver titaniumatomer eller -ioner og danner en høj-renhed, højtydende titanium- eller titaniumforbindelsesfilm på substratet.

▸Kerneegenskaber og tekniske specifikationer:
1. Ultra-høj renhed: Tilgængelig i forskellige renhedsniveauer, fra 99,99% (4N) til 99,9999% (6N), opfylder disse mål de strenge urenhedskrav til forskellige applikationer og sikrer fremragende ledningsevne, korrosionsbestandighed og biokompatibilitet.
2. Størrelse og vægt, der kan tilpasses: Fuldt tilpasset produktion understøttes. Maksimal størrelse og vægt kan designes og fremstilles til at opfylde specifikke kundeudstyrskamre, proceskrav og sputterkraft, hvilket giver maksimal procesfleksibilitet.
3. Professionel emballage: Sikkert emballeret i trækasser eller -paller er disse højværdi- og højpræcisionsmål beskyttet mod beskadigelse, forurening og deformation under transport og opbevaring og opfylder industrielle forsendelsesstandarder.

▸Kerneanvendelsesområder:
1. LCD-skærme (Liquid Crystal Displays): Anvendes til at afsætte elektroder (såsom gate, source/drain) eller barrierelag i tyndfilmstransistor (TFT) arrays, hvilket er afgørende for at vise ydeevne og udbytte.
2. Medicinsk udstyr og implantater: Bruges til at afsætte tynde film af høj renhed af titanium eller titaniumnitrid på overfladerne af medicinsk udstyr såsom kunstige led, knogleskruer, tandimplantater og kardiovaskulære stenter, hvilket væsentligt forbedrer produkternes biokompatibilitet, slidstyrke, korrosionsbestandighed og osseointegration.